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挥发性有机废气处理

挥发性有机废气处理

简要描述:挥发性有机废气处理催化燃烧设备的组成及工作原理:催化燃烧设备主要由活性炭吸附装置+催化燃烧器两大部分组成,即吸附浓缩—催化燃烧法。催化燃烧设备采用双气路或者多气路连续工作,所设计的活性炭吸附装置可交替使用,一个催化燃烧室;

产品型号: KT

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更新时间:2021-03-16

详细说明:
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催化燃烧设备在工作时先将有机废气用活性炭吸附,当活性炭达到吸附饱和时停止吸附操作,然后在适当温度范围内使活性炭发生脱附;脱附下来的有机物浓度较原来提高几十倍并送入催化燃烧室进行催化燃烧反应,在催化剂表面于200350℃条件下进行反应,使其转化为无害的水和二氧化碳;催化燃烧反应是一个放热反应,这些反应后的热量通过热交换作用,将温度进行截留再利用。所以催化燃烧设备比较节能,它只消耗风机的功率。再生后的活性炭可用于下次吸附;在其中一个吸附床进行脱附时控制系统可自动打开另一个吸附床继续进行有机废气的吸附工作,这样两台或者多台吸附床切换运行可实现大工作量的连续废气处理作业。

 

      挥发性有机废气处理设备系统工程-催化燃烧设备在工作时先将有机废气用活性炭吸附,当活性炭达到吸附饱和时停止吸附操作,然后在80~120℃的温度范围内使活性炭发生脱附;脱附下来的有机物浓度较原来提高几十倍并送入催化燃烧室进行催化燃烧反应,在催化剂表面于200350℃条件下进行催化氧化反应,使其转化为无害的CO2H2O 

 

 半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0ZnSCdSPbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是*广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。

     

       催化燃烧设备在工作时先将有机废气用活性炭吸附,当活性炭达到吸附饱和时停止吸附操作,然后在适当温度范围内使活性炭发生脱附;脱附下来的有机物浓度较原来提高几十倍并送入催化燃烧室进行催化燃烧反应,在催化剂表面于200350℃条件下进行反应,使其转化为无害的水和二氧化碳;废气进入催化氧化系统时,电加热器将100Nm3/h空气由常温加热到250℃,保证催化床层温度(当催化氧化反应器入口温度达到280℃时,电加热器停止工作,当催化氧化反应器入口温度低于250℃电加热器再次开启,由于进出催化氧化反应器的气体经过充分的热交换,正常状况下,电加热器工作时间很短)。当有废气进入催化氧化系统时,VOCs氧化分解放出的热量经过气气换热器回收,电加热器不需要工作。

 

       挥发性有机废气处理设备系统工程-催化燃烧反应是一个放热反应,这些反应后的热量通过热交换作用,将温度进行截留再利用。所以催化燃烧设备比较节能,它只消耗风机的功率。再生后的活性炭可用于下次吸附;在其中一个吸附床进行脱附时控制系统可自动打开另一个吸附床继续进行有机废气的吸附工作,这样两台或者多台吸附床切换运行可实现大工作量的连续废气处理作业。

 

        燃烧工艺流程有分建式与组合式两种。在分建式流程中,预热器、换热器、反响器均作为独立设备别离建立,其间用相应的管路衔接,一般应用于处理气量较大的场合组合式流程将预热、换热及反响等部分组合安装在同一设备中,即所谓催化燃烧炉,流程紧凑、占地小,一般用于处理气量较小的场合。我国有这类装置的定型产品,可根据处理气量的巨细进行挑选。进行催化床层的气体温度必需要到达所用催化剂的起燃温度,催化反响才干进行。因而对低于起燃温度的进气,必须进行预热使其到达起燃温度。特别是开车时,对冷时气必须进行预热,因而催化燃烧法适于连续排气的净化,经开车时对进气预热后,即可使用催化燃烧设备的燃烧尾气的热量预热进口气体。若废气为间歇排放,每次开车均需对进口凉气进行预热,预热器的频繁发动,使能耗大大添加。气体的预热方式能够采用电也能够采用烟道气加热,目前应用较多的为电加热,催化燃烧设备装置系统组成及控制方法。



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